特色：
本书介绍了缩小到纳米尺寸的CMOS器件面临的挑战，以及为改善器件性能而发展的新工艺、新结构。全书共六章，内容涉及CMOS器件等比例缩小的发展趋势，缩小到纳米尺寸的CMOS器件面临的挑战，实现纳米图形尺寸的光刻技术，纳米CMOS器件中的栅工程，纳米CMOS器件中的沟道工程，以及各种新型的纳米CMOS器件结构及实现技术。本书取材新颖，基本反映了CMOS器件的*新发展。 本书可作为微电子专业高年级本科生以及研究生的教学参考书，对从事CMOS器件和集成电路设计与研究的科学家和工程师也有重要参考价值，信息领域其他专业的科技人员也可从本书中了解一些微电子技术的*新进展。