作者：
出版社： 江苏大学出版社
CIP号：2018287935
书号：978-7-5684-1030-4
出版地：镇江
出版时间：2018.12
定价：￥39.0
Sr/Si界面在晶形高介电常数(k)氧化物-半导体体系的外延生长中具有重要的作用, 是形成外延高k氧化物必不可少的缓冲界面层。本书深入研究了不同Sr/Si再构表面的几何及电子结构，并探讨相关的物理机制。