作者	崔铮
出版社
出版时间	2005-06-01

特色：
本书旨在综合介绍近年来微纳米加工技术的进展。全书共分为8章以微纳米加工的关键技术为主线，即微纳米光刻技术，其中包括光学曝光加工，电子束曝光加工，聚焦离子束加工，微纳米图形转移技术，微纳米图形复制技术，重点介绍这写技术的特点，典型设备，关键工艺技术，与其他类似技术的比较，近年来的新发展，未来的发展趋势。在介绍中以国际上近年来发表的文献为基础，包括作者近十余年来在这一领域的研究成果和经验。每一种技术的介绍着重解释清楚基本概念。不偏重于深奥的理论，而侧重于阐述实际应用中所遇到的问题和解决办法。本书的*后一章为微纳米加工技术的应用，包括了当今*热门的高科技领域，如微纳米电子学，高密度磁存储，微机电系统，生物芯片与纳米技术。介绍微纳米加工技术在这些领域的所起的关键作用。全书各章都附有详细的参考文献。本书*后附有中英文名词对照与索引。为读者进一步参阅国外文献资料提供了方便。本书的读者对象为大专院校高年级研究生，大学教师，从事微电子工艺，微系统技术与纳米技术的科学工作者及工程技术人员，从事微电子工艺技术，超大规模集成电路工艺技术的从业人员。

本书集作者多年来的实践经验与研究成果，系统地介绍了微纳米加工技术的基础，包括光学曝光技术、电子束曝光技术、聚焦离子束加技术、X射线曝光技术、各种刻蚀技术和微纳米尺度的复制技术。对各种加工技术着重讲清原理，列举基本的工艺步骤，说明各种工艺条件的由来，并注意给出典型工艺参数。充分分析了各种技术的优缺点及在应用过程中的注意事项。全书强调实用，避免烦琐的数学分析，既注重基础知识又兼顾微纳米加工领域近年来的*新进展及在各高科技领域的应用，并列举了相关参考文献供理步深入研究，因此不论是对初次涉足这一领域的大专院校的本科生和研究生，还是对已经有一定工作经验的专业科技人员，都具有很好的参考价值。