纹影与阴影技术

纹影与阴影技术

作者:

出版社: 国防工业出版社

CIP号:2018131718

书号:978-7-118-11577-2

出版地:北京

出版时间:2018.8

定价:¥98


简介

本书介绍了纹影与阴影技术的相关概念和具体应用。重点介绍了经典的托普勒纹影技术、大视场聚焦纹影技术、阴影技术,以及一些特种纹影技术和定量评价方法,介绍了纹影和阴影技术在应用过程中所遇到的系统配置、构成和成像等实际问题,最后举例说明了其在固体、液体和气体等多种不同场合和领域的具体应用。本书的读者对象是流动显示专业领域内的研究生和相关领域的研究人员。

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