为造型而战

为造型而战

作者:沙伟臣, 杨慎修主编

出版社: 吉林美术出版社

CIP号:2016017322

书号:978-7-5575-0782-4

出版地:长春

出版时间:2016.1

定价:¥138


简介

本书详细讲述了中央美术学院近年来造型专业状元高健、刘丹洋、张昱的考前经历、学习过程、学习方法、应考心得和方法以及对央美考题与形式的分析,并收录了老师对三位学生作品的精彩点评以及两位家长对于他们成长经历的回忆。帮助更多徘徊在央美门外的同学,找到踏进央美的方法与途径。

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