作者：伍强编著
出版社： 清华大学出版社
CIP号：2019195763
书号：978-7-302-53742-7
出版地：北京
出版时间：2019.12
定价：￥89.0
本书将对光刻从设备、材料和工艺以及工艺仿真作一个全面的展示。尤其将针对临近衍射极限的光刻技术，比如193 nm浸没式光刻技术作一个重点地阐述。针对国内缺乏的光刻设备和先进光化学材料的技术情况下，本书试图在深度上有所突破，比如在光刻机的结构设计，校准，以及各主要零部件所应该达到的尺寸规格和机械精度、测控性能作深入的探讨。