作者	G.霍兹
出版社
出版时间	2006-04-01

特色：

本书共分九章。前五章作者详细的介绍了电沉积技术在制备纳米晶氧化物、硫化物、卤化物、量子点、超晶格、多层膜等材料领域的应用，以及利用光—电化学刻蚀方法制备了多孔半导体材料，特别是多孔硅材料领域的一些特点。后四章作者重点强调了纳米结构材料以及孔材料的电化学特性，包括光生电、电荷输运、光致变色、电致发光以及材料的自组装过程。在本书中，作者着重探讨了在纳米尺度上存在的量子效应以及表面态，研究各种合成条件对材料微观结构和性质的影响。