薄膜材料-应力.缺陷的形成和表面演化

作者(美) L. B. Freund, (美) S. Suresh著
出版社
出版时间2007-01-01

特色:
本书总结了过去几十年里薄膜材料的研究进展,同时将重点放在薄膜中内应力的起源、发展及其影响等诸多方面,书中不仅系统考虑了薄膜-系统或多层膜系统的整体变形及薄膜的断裂、脱层和翘曲,而且还考虑了更小惊讶上薄膜中位错的形成及非弹性变形、薄膜中应力的影响与薄膜材料之间的联系贯穿于整书的讨论,通过举例计算和有实际意义的实例分析及讨论,更加具体地阐明了书中的基本概念,并于每章后附有习题。  本书可供从事材料科学和工程及相关研究领域工作,特别是从事薄膜材料研究的科技人员和微电子机械领域从事设计制造的工程技术人员阅读,也可作为有关专业的研究生和大学高年级本科生的和参考书。

薄膜在现代技术中有许多重要的应用,例如在微电子器件,磁存储介质和表面材料等,本书全面地介绍了表面的应力及其产生的效应。其中包括表面缺陷的形成和表面的演化。本书包含理论介绍,试验和数值模拟方面的介绍。适合作为研究生教材,也可供感兴趣的读者参考

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