| 作者 |
| 马群刚 |
| 丛书名 |
| 新型显示技术丛书 |
| 出版社 |
| 电子工业出版社 |
| ISBN |
| 9787121400438 |
| 简要 |
| 简介 |
| 内容简介书籍计算机书籍 本书将科学原理与工程实践相结合，系统地介绍TFT-LCD的基本原理与功能设计。全书共12章，分三大部分。第一部分介绍TFT-LCD的基本概念，TFT器件的工作原理与液晶的基本物理特性；第二部分介绍TFT-LCD的材料技术与工艺技术；第三部分介绍TN/IPS/VA显示屏原理与设计、TFT-LCD电路驱动原理与设计、TFT-LCD模组结构原理与设计、TFT-LCD高品质和低成本设计、半透过型TFT-LCD原理与设计。本书在介绍TFT-LCD基本原理的基础上，全面地介绍了近几年发展起来的TFT-LCD新技术、新应用。 本书可作为高校、科研单位、企业、政府等学习、应用和发展TFT-LCD显示技术的重要参考资料。 |
| 目录 |
第 1章 绪论\t1 1．1 TFT-LCD的功能结构\t1 1．2 TFT-LCD的基本概念\t5 1．2．1 与物理相关的概念\t5 1．2．2 与光学相关的概念\t9 1．3 TFT-LCD的彩色显示\t13 1．3．1 光的颜色和亮度\t13 1．3．2 色的坐标和温度\t16 1．3．3 彩色显示的基本概念\t21 本章参考文献\t24 第 2章 TFT器件技术\t28 2．1 TFT器件基础\t28 2．1．1 TFT器件的种类与结构\t28 2．1．2 TFT器件的开关特性\t30 2．1．3 TFT开关特性的结构设计\t34 2．2 a-Si TFT技术\t39 2．2．1 a-Si半导体特性\t39 2．2．2 a-Si TFT开关特性\t42 2．2．3 a-Si TFT工艺技术\t47 2．2．4 a-Si TFT开关的工艺设计\t51 2．3 LTPS TFT技术\t54 2．3．1 LTPS TFT的分类\t55 2．3．2 LTPS 半导体特性\t59 2．3．3 LTPS TFT器件特性\t61 2．3．4 LTPS TFT工艺技术\t66 2．4 IGZO TFT技术\t69 2．4．1 IGZO半导体特性\t70 2．4．2 IGZO TFT器件特性\t73 2．4．3 IGZO TFT可靠性\t75 本章参考文献\t80 第3章 液晶显示基础\t86 3．1 液晶结构\t86 3．2 液晶光学\t89 3．2．1 液晶的光学各向异性\t89 3．2．2 液晶的偏光特性\t91 3．3 液晶电学\t93 3．3．1 液晶的介电各向异性\t93 3．3．2 液晶的V-T特性\t95 3．3．3 液晶的交流驱动\t96 3．4 液晶力学\t97 3．4．1 液晶的黏弹性\t97 3．4．2 液晶动态电容效应\t99 3．5 液晶材料\t100 3．5．1 液晶分子结构与特性\t100 3．5．2 液晶材料的特性要求\t104 3．6 液晶显示模式\t106 3．6．1 TN显示模式\t106 3．6．2 IPS显示模式\t108 3．6．3 VA显示模式\t109 本章参考文献\t110 第4章 TFT-LCD材料技术\t113 4．1 玻璃基板\t113 4．1．1 玻璃基板的制造技术\t113 4．1．2 玻璃基板的使用要求\t116 4．2 导电薄膜\t119 4．2．1 金属导电薄膜\t119 4．2．2 ITO透明导电薄膜\t122 4．3 配向膜\t125 4．3．1 配向膜的材料技术\t125 4．3．2 配向膜的特性要求\t127 4．4 封框胶\t130 4．5 间隙子\t132 4．6 CF基板\t135 4．6．1 CF的材料技术\t136 4．6．2 CF的特性要求\t140 4．7 偏光板\t144 4．7．1 偏光板概述\t144 4．7．2 相位差板\t148 4．7．3 宽视角补偿膜\t151 4．8 电路元件\t155 4．8．1 电学元器件\t155 4．8．2 PCB基板\t155 4．8．3 驱动IC封装方式\t157 4．9 背光源\t159 4．9．1 光源\t159 4．9．2 光学膜片\t162 4．9．3 导光板\t166 本章参考文献\t168 第5章 TFT-LCD工艺技术\t173 5．1 阵列工艺技术\t173 5．1．1 阵列工艺流程\t174 5．1．2 玻璃基板洗净\t177 5．1．3 PVD成膜\t179 5．1．4 PECVD成膜\t182 5．1．5 光刻胶处理\t185 5．1．6 曝光处理\t189 5．1．7 湿刻\t193 5．1．8 干刻\t196 5．1．9 阵列检查工程\t199 5．2 成盒工艺技术\t201 5．2．1 配向膜处理\t202 5．2．2 封框胶涂布\t205 5．2．3 液晶滴下\t207 5．2．4 真空贴合\t209 5．2．5 封框胶硬化\t212 5．2．6 玻璃切断\t214 5．2．7 偏光板贴附\t217 5．2．8 成盒工程检查\t219 5．3 模块工艺技术\t221 5．3．1 外引脚贴合\t221 5．3．2 信号处理基板压接\t225 5．3．3 模块组装\t227 5．3．4 老化实验\t228 5．3．5 模块工程检查\t230 本章参考文献\t231 第6章 TN显示原理与设计\t235 6．1 TN显示原理\t235 6．1．1 TN显示的透光率\t235 6．1．2 TN显示模式的选择\t238 6．1．3 TN显示的光学原理\t240 6．1．4 TN显示的电学原理\t243 6．2 TN像素工作原理\t246 6．2．1 TN像素基本结构\t246 6．2．2 像素中的电容效应\t249 6．2．3 配线延迟效应\t253 6．2．4 灰阶电压写入与保持\t257 6．2．5 TN显示的综合效应\t259 6．3 15XGA的显示屏设计\t262 6．3．1 预设计\t262 6．3．2 TFT侧像素设计\t267 6．3．3 彩膜侧像素设计\t272 6．3．4 显示屏周边设计\t277 6．3．5 显示屏用标记设计\t284 6．4 15XGA的基板相关设计\t288 6．4．1 基板用TEG与标记设计\t288 6．4．2 UV掩膜版和UV基板设计\t292 6．4．3 配向膜印刷版设计\t296 本章参考文献\t298 第7章 IPS显示原理与设计\t302 7．1 IPS显示原理\t302 7．1．1 IPS显示的透光率\t302 7．1．2 IPS显示的光学原理\t306 7．1．3 IPS显示的电学原理\t310 7．2 IPS技术的发展\t312 7．2．1 S-IPS显示技术\t313 7．2．2 AS-IPS显示技术\t316 7．2．3 FFS显示技术\t317 7．2．4 AFFS显示技术\t321 7．3 32HD IPS显示屏设计\t324 7．3．1 IPS像素设计原理\t324 7．3．2 32HD像素设计\t329 7．3．3 32HD显示屏设计\t334 7．4 32UHD FFS显示屏设计\t337 7．4．1 AFFS像素设计原理\t337 7．4．2 32UHD像素设计\t339 7．4．3 32UHD显示屏设计\t343 7．5 IPS残像的机制与对策\t346 7．5．1 IPS残像的机制\t347 7．5．2 离子型不纯物分析\t351 7．5．3 残留DC分析\t356 7．5．4 线残像的机制与对策\t361 本章参考文献\t363 第8章 VA显示原理与设计\t366 8．1 VA显示原理\t366 8．1．1 VA显示的透光率\t366 8．1．2 VA显示的光学原理\t368 8．1．3 VA显示的电学原理\t370 8．2 VA技术的发展\t373 8．2．1 MVA显示技术\t373 8．2．2 PVA显示技术\t377 8．2．3 CPA显示技术\t380 8．2．4 PSVA显示技术\t386 8．2．5 UV2A显示技术\t388 8．3 VA的色偏机理与对策\t390 8．3．1 VA的色偏机理与评价\t390 8．3．2 色偏的8畴改善技术\t394 8．3．3 色偏的其他改善技术\t399 8．4 98QUHD显示屏设计\t401 8．4．1 98QUHD的传统VA像素设计\t402 8．4．2 98QUHD的光配向VA像素设计\t407 8．4．3 98QUHD显示屏设计\t410 本章参考文献\t415 第9章 TFT-LCD驱动技术与设计\t419 9．1 TFT-LCD驱动原理\t419 9．1．1 驱动原理简介\t419 9．1．2 驱动方式\t423 9．1．3 灰阶增强技术\t428 9．2 TFT-LCD电路技术\t431 9．2．1 接口电路\t432 9．2．2 电源电路\t439 9．2．3 时序控制电路\t444 9．2．4 数据驱动电路\t451 9．2．5 扫描驱动电路\t460 9．3 TFT-LCD电路设计\t466 9．3．1 电路原理图设计\t466 9．3．2 PCB和COF版图设计\t473 9．3．3 COF设计\t478 9．3．4 伽马设计与调节\t479 本章参考文献\t482 第 10章 TFT-LCD结构技术与设计\t486 10．1 结构技术与设计概要\t486 10．1．1 结构技术概要\t486 10．1．2 结构设计概要\t490 10．2 模组的结构设计\t493 10．2．1 开路显示屏结构设计\t493 10．2．2 胶框设计\t498 10．2．3 导光板设计\t501 10．2．4 光学膜片设计\t503 10．2．5 CCFL光源的结构设计\t505 10．2．6 LED光源的结构设计\t510 10．3 背光源的光学设计\t512 10．3．1 光学设计基础\t513 10．3．2 亮度设计\t516 10．3．3 亮度均匀性设计\t517 10．3．4 光学品质设计\t520 10．4 模组的力学设计\t521 10．4．1 强度设计\t522 10．4．2 散热设计\t527 10．4．3 防尘设计\t529 10．5 模组的电学设计\t530 10．5．1 EMI设计\t530 10．5．2 绝缘耐压设计\t532 10．6 模组的其他设计\t532 10．6．1 组装设计\t532 10．6．2 安全性设计\t533 本章参考文献\t535 第 11章 高品质和低成本设计\t539 11．1 面向光学规格的高品质设计\t539 11．1．1 高亮度设计\t539 11．1．2 高对比度设计\t541 11．1．3 高响应速度设计\t544 11．2 面向特殊画质的高品质设计\t548 11．2．1 闪烁机制与设计对策\t548 11．2．2 串扰机制与设计对策\t552 11．2．3 显示不均的机制与设计对策\t557 11．3 高合格率设计\t563 11．3．1 工程检查及相关设计\t563 11．3．2 ESD改善设计\t565 11．3．3 点缺陷修复设计\t569 11．3．4 线缺陷修复设计\t574 11．4 低成本设计\t577 11．4．1 掩膜版消减技术\t578 11．4．2 驱动IC消减技术\t581 11．4．3 背光源零组件消减技术\t588 本章参考文献\t590 第 12章 半透过型TFT-LCD设计\t594 12．1 反射型TFT-LCD原理与设计\t594 12．2 半透过型TFT-LCD原理与设计\t597 12．3 半透过型TFT-LCD的反射光学设计\t600 12．3．1 内反射光学设计\t601 12．3．2 外反射光学设计\t604 12．4 半透过型TFT-LCD的偏光光学设计\t606 12．4．1 ECB常白模式的偏光光学设计\t607 12．4．2 ECB常黑模式的偏光光学设计\t612 本章参考文献\t614 |